99 % amorphes Borpulver / Borpartikel (Mikrongröße 3 µm)

Beschreibung

99 % amorphes Borpulver / Borpartikel (Mikrongröße 3 µm)

Produkteinführung

Das auf dem Borpulvermarkt weit verbreitete amorphe Borpulver besteht hauptsächlich aus Rohbor mit hohem Verunreinigungsgehalt, das durch die thermische Reduktion mit Magnesium hergestellt wird. Dieses Verfahren ist einfach, ergiebig und relativ kostengünstig. Da die Standards in verschiedenen Bereichen stark variieren, ist die Definition von „amorphem Borpulver“ nicht einheitlich.

Amorphes Bor ist ein amorphes Element. Unser Unternehmen stellt hochreines amorphes Borpulver mittels magnesothermischer Reduktion in Kombination mit mehreren speziellen Reinigungsverfahren her. Amorphes Borpulver zeichnet sich durch hohe gravimetrische und volumetrische Wärmekapazität sowie hohe Reaktivität aus. Es findet breite Anwendung in Festbrennstoff-Treibstoffen, als Desoxidationsmittel, Antioxidationsmittel und Katalysator in der Elektronikindustrie und spielt eine wichtige Rolle in der Material- und Halbleiterforschung. Die Partikelgröße des amorphen Bors liegt unter 3 µm; größere Partikel erfordern eine Nachbearbeitung.

Produktmerkmale

1. Aufgrund seiner Dichte wird Bor in amorphes und kristallines Bor unterteilt. Amorphes Bor hat eine Dichte unter 1,73 g/cm³.
2. Das weit verbreitete amorphe Bor entsteht durch Reduktion bei etwa 1000℃, wobei 60 % davon α-rhombisches kristallines Bor und 40 % amorphes Bor, eine Mischung aus kristallinem und amorphem Bor, sind.
3. Aufgrund seiner geringen Partikelgröße und gleichmäßigen Verteilung weist amorphes Bor eine hohe Aktivität auf.

DURCHSCHNITTLICHE CHEMISCHE ZUSAMMENSETZUNG (TYPISCH)

Verfügbare Größe:

Anwendungsbereiche:

1. Amorphes Borpulver mit einem Borgehalt von 95–99 % besitzt eine hohe Massen- und Volumenwärme, was zu einem hohen spezifischen Impuls führt. Es ist ein hochwertiges Material für Raketentreibstoffe und Sprengstoffe.

2. Borpulver mit einem Boranteil von über 99 % ist ein elektronisches Material, das als Desoxidationsmittel, Antioxidationsmittel und Katalysator wirkt. Es spielt eine entscheidende Rolle in der Halbleiterfertigung, indem es die Leitfähigkeit und Kristallstruktur von Halbleitern beeinflusst und somit die Leistung und Zuverlässigkeit der Bauteile bestimmt. Es findet breite Anwendung in High-End-Produkten, die eine hohe Borreinheit erfordern, wie beispielsweise in elektronischen Materialien und der Halbleiterdiffusion.

3. Amorphes Borpulver mit einer Reinheit von 99,9 % wird bei der Herstellung von Solar-Siliziumwafern als Substrat-Dotierstoff für P-leitende Siliziumwafer und zur Bor-Emitter-Diffusion in N-leitenden Siliziumwafern verwendet.

4. Hochreine Borpulver der Typen 5N und 6N können als Dotierstoffe in P-Halbleitern eingesetzt werden, um deren Leitfähigkeit zu verändern und so die Herstellung hochreiner Siliziumwafer zu ermöglichen.

Verpackung:

Vakuumbeutel + Fässer + Paletten